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一支由清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队,客服重重困难自主研发出了光刻机双工件台,这是中国光刻机再获得的一个重大突破。要知道光刻机制造的过程中,难度最大的就是双工件台的制造,毕竟双工件台是光刻机的两大核心部件之一,就连日本都没研发出来。有了双工件台就可以大大提高生产芯片的速度,这一成果让中国成为了世界上第二个可以生产双工件台的国家。虽然只是一个小小的成就和突破,但是也代表了中国企业发展芯片的决心,同时还显示出我国强大的自主科研能力,这一突破是中国光刻机领域的一小步,也是中国芯的一大步!
国产光刻机现在28纳米DUV光刻机已经完全可以国产了。精度更高的光刻机需要依靠进口。而EUV光刻机目前只有荷兰阿斯麦公司出产,估计国家正在攻关。集成电路产业的完整生产链国家正在布局发展中,相信美国为首的西方国家对华封锁终将被打破。
我国光刻机国产化已达60%,近年来我国越来越重视半导体产业的发展,因为在未来,芯片将昰万物的根基,而我国目前最缺少的就是心片方面的技术,为了扶持半导体企业的发展,我国甚至成立了专门的基金会,庆幸的是,在国家的扶持下中国芯终于取得了不错的成果。
一定程度上说,我国芯片发展受限于半导体行业相关技术的发展密切相关,在我国多年来在芯片领域寻找突破的背景下,我国的半导体企业突然宣布,由我国企业制造的光刻机出货成功,国产化程度将得到大幅提升。
经过很多新闻报道的宣传,大家应该已经十分清楚光刻机对于芯片制造的重要作用。光刻机是芯片生产过程中光刻一阶段中必备的一项高端设备,其研制生产的成本极高,同时需要多项高科技技术的加持,是很多国家都不具备的一项技术。
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