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长鑫存储创新专利革新光刻技术，大幅提高生产良率

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长鑫存储新专利提升光刻工艺良率

2024年3月28日，长鑫存储技术有限公司成功取得一项专利，名为“光掩膜板及其形成方法”，授权公告号CN112925164B，始于2019年12月的申请。

该专利针对光掩膜板及其制造方法，有效解决了光刻过程中图形边界模糊和不精准问题，显著提升了光刻工艺的生产加工良率。光掩膜板包括基板、相移层、第一光遮蔽层和第二光遮蔽层，其中第一光遮蔽层沿图案区域边缘设置，透光率低于预设值。

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